感光,感光胶,感光性,器件类技术资料(168元/全套)欢迎选购！请记住本套资料售价：168元；资料编号：F364478
敬告：我公司只提供技术资料，不能提供任何实物产品及设备，也不能提供生产销售厂商信息。
[7444-0045-0001] 平板显示装置及其制造方法
[摘要] 本发明公开了一种平板显示装置和该装置的制造方法。这种平板显示包括设置在基片上面布置的第*电极层和第二电极层。排列在第*电极层和第二电极层之间的多个象素区域是由一个包含发光层的发光部分构成。至少在象素区域之间的一部分，挡板由至少一层或多层构成，并且在每个挡板的至少一侧形成了一个沟槽部分。
[7444-0170-0002] 光掩模
[摘要] 在假想区域(2)及(3)上，作为副图形形成有虚拟图形。其中，在只形成有假想区域(2)及(3)的主图形的情况下的开口率，分别为60％、90％。假想区域(2)中的虚拟图形，是一边的长度为0.15μm的正方形遮光图形，假想区域(3)中的虚拟图形，是一边的长度为0.20μm的正方形遮光图形。同时，假想区域(2)及(3)的开口率，均设定在30％。如果进行使用这样的光掩模的曝光，则在感光体的曝光用的光照射到的范围内，在任何一点上，由局部光斑产生的光的量基本上是均匀的。其结果，即使产生线宽的变化，其程度在整个光掩模上也是均匀的。
[7444-0151-0003] 一种多自由度运动和定位装置
一种多自由度运动和定位装置，它由调平轴、柔性块、轨迹板和由立柱框架、提升旋转分离机构、导轨、导轨平台、电机平台、运动平台共同构成的支撑机构所组成；该调平轴旋合在立柱框架上，通过旋转调平轴来精确调整其支撑的调整平台；该轨迹板固定在立柱框架上，而轨迹销则固定在运动平台上，该提升旋转分离机构的上主轴通过压紧螺母固定在导轨平台底部。其结构紧凑，支承荷载大，可减轻冲击，高度、水平可调节，具有多个自由度，并且能按预定轨迹准确运动，且运动平稳，可靠性高，并能实现机构的提升、旋转及分离。特别是在光刻设备制造中，用于支撑光刻机掩模台并使掩模台按预定轨迹运动。
[7444-0127-0004] 纳米压印光刻胶
[摘要] 本发明涉及一种电子元件的微结构化方法，其提供高分辨率(≤200纳米)和良好纵横比，但明显比照相平版印刷法更为经济。根据本发明的方法包括下列步骤：i)制备如权利要求1的纳米复合材料组合物的未固化的平面溶胶膜；ii)制备由底涂层b)和载体c)组成的目标底材；iii)借助微结构化的转移压印冲头将得自i)的溶胶膜材料转移至ii)中的底涂层b)上；iv)将转移的溶胶膜材料予以固化；v)移除转移压印冲头，得到压印的微结构作为顶涂层a)。微结构化的半导体材料的制备另外包括下列步骤：vi)等离子体蚀刻残余的纳米复合材料溶胶膜层，优选用chf3/o2等离子体，vii)等离子体蚀刻底涂层，优选用o2等离子体，viii)蚀刻半导体材料或者在经蚀刻区域掺杂半导体材料。
[7444-0120-0005] 高尔夫球杆头表面蚀刻方法
[摘要] 一种高尔夫球杆头表面蚀刻方法。为提供一种增加蚀刻精密度、提升蚀刻良率、加速蚀刻制程及降低蚀刻成本的高尔夫球运动器具部件制造方法，提出本发明，它包括在高尔夫球杆头欲蚀刻金属表面涂布遮罩层的步骤一；利用激光光束照射遮罩层，以形成预定纹路的裸露窗口的步骤二；化学蚀刻处理对应裸露窗口的金属表面，以蚀刻出预定纹路的步骤三及清除遮罩层的步骤四。
[7444-0141-0006] 在晶片处理中低电介质材料的钝化方法
[摘要] 公开了一种使用超临界二氧化碳钝化溶液来钝化二氧化硅基低k材料的方法，所述钝化溶液包括甲硅烷基化剂。所述甲硅烷基化剂优选是有机硅化合物，其包括具有五个碳原子的有机基团，例如六甲基二硅氮烷(hmds)和氯三甲基硅烷(tmcs)以及它们的组合。依照本发明的实施方案，当所述二氧化硅基低k材料被暴露到所述超临界处理溶液时，其被保持在40到200摄氏度范围内的温度，优选在大约150摄氏度，和保持在1,070到9,000psi范围内的压力，优选在大约3,000psi的压力。依照本发明进一步的实施方案，用超临界二氧化碳清洗溶液同时清洗和钝化二氧化硅基低k材料。
[7444-0081-0007] 优化偏振照明
[摘要] 公开的概念包括一种对将要形成在基底表面上的图案的照明偏振进行优化的方法。通过如下步骤来优化偏振照明：对于至少两种偏振态确定照明器上的至少一点的照明强度，对于至少两种偏振态确定照明器上的至少一点的图像对数斜率，确定*大图像对数斜率(ils)其中对于照明器上的至少一点ils接近零，以及选择相应于对于照明器上的至少一点使ils*小化的至少两个偏振态的*佳偏振态。对于照明器上的多个点可以重复进行这些步骤。
[7444-0054-0008] 用于显微平版印刷的氟化共聚物
[摘要] 说明了光致抗蚀剂组合物和有关显微平版印刷方法中所用的氟化共聚物。这些共聚物包含同时为这些材料提供高紫外(uv)透明度和碱性介质中可显影性的含氟醇或者含氟醇的保护官能团，以及来自包含含氟烷基或羟基取代烷基的丙烯酸酯单体的重复单元。本发明材料的uv透明度高，尤其是在193和157nm下，使它们可以用于在这些短波长下进行平版印刷。
[7444-0083-0009] 光刻装置及器件制造方法
[摘要] 一种光刻装置，包括提供辐射光束的照射系统；物品支架，用于把将设于所述辐射光束光路中的平面物品支撑于其上；设置于所述物品支架中的回填气体输送装置，用于在所述物品被支撑于所述物品支架时，向所述物品的背面输送回填气体；以及夹持装置，用于在投射过程中将所述物品夹持于所述物品支架上。根据本发明的一个方面，该装置包括控制器，用于控制夹持装置和/或回填气体输送压强，以在回填气体输送压强减小之前释放夹持装置。
[7444-0074-0010] 光刻术的方法,装置和计算机程序产品
[摘要] 一种在可以绕轴(5)转动的基本平坦基片(3)的表面层(4)中借助于预定曝光量的光刻射束(2)曝光制成材料槽(6)的方法，其特征是，在基片(3)绕轴转动期间，光刻射束(2)与轴(5)之间的相对位置受到控制，使部分槽(6)接受光刻射束(2)的多次曝光，槽(6)是由所述多次曝光之和制成。此外，描述光刻装置和计算机程序产品，计算机程序产品具有按照该方法控制这种装置的指令。
[7444-0182-0011] 一种采用激光对su-8胶曝光光刻的方法及其装置
[7444-0123-0012] 七自由度定位机构
[7444-0188-0013] 基于多环聚合物的感光组合物
[7444-0202-0014] 曝光装置及方法
[7444-0007-0015] 磺酸衍生物及其作为潜酸的用途
[7444-0178-0016] 高分辨率的圆网制版用感光胶
[7444-0070-0017] 一种用于硬掩膜层的含氧化硅基团的抗反射组合物
[7444-0187-0018] 用于干膜抗蚀剂的热稳定的光固化树脂组合物
[7444-0102-0019] 沉浸式石印流体
[7444-0038-0020] 光刻装置和器件制造方法
[7444-0023-0021] 掩模和使用该掩模制造液晶显示器件的方法
[7444-0183-0022] 光阻用显影液浓度管理方法与管理装置
[7444-0033-0023] 含有包括氟磺酰胺基团的聚合物的正型光刻胶组合物及其使用方法
[7444-0201-0024] 形成反光图案的方法及其制品
[7444-0162-0025] 平版印刷版前体
[7444-0014-0026] 校正在三色调衰减相移掩模中邻近效应的结构和方法
[7444-0056-0027] 图像形成方法和装置
[7444-0192-0028] 用于抗反射涂层的组合物及形成图形的方法
[7444-0190-0029] 极高孔径的投影物镜
[7444-0137-0030] 步进扫描投影光刻机中的杂散光原位检测方法
[7444-0086-0031] 含有酮、醛共聚合物的酸分解性树脂组合物
[7444-0194-0032] 布局数据检验方法、掩模图案检验方法及电路动作检验方法
[7444-0075-0033] 嵌入式衰减相移光掩模坯料
[7444-0124-0034] 使用相移和辅助微细结构使半导体层形成图案
[7444-0177-0035] 高效水乳型圆网感光胶
[7444-0107-0036] 含有反应性颗粒的可光固化组合物
[7444-0173-0037] 防止显影缺陷的方法及用于该方法的组合物
[7444-0117-0038] 光刻胶层中减小图案尺寸的方法
[7444-0135-0039] 用于光刻工艺窗口*优化的方法和系统
[7444-0034-0040] 正型光致抗蚀剂剥离液组合物
[7444-0195-0041] 一种耐酸耐碱的圆网制版感光胶
[7444-0179-0042] 亚波长光刻的实施相平衡散射条放置模型的方法及其装置
[7444-0154-0043] 包含聚合物磺酸盐酸产生剂的辐射敏感组合物及其在成像中的用途
[7444-0025-0044] 掩模
[7444-0015-0045] 感光树脂组合物
[7444-0100-0046] 化学增幅型抗蚀剂及图案形成方法
[7444-0189-0047] 可见光感光性组合物
[7444-0079-0048] 自适应的光刻临界尺寸增强
[7444-0101-0049] 用于等离子体显示板的光敏导电组合物
[7444-0088-0050] 感光性转印薄片、感光性叠层体、形成图像图案的方法、形成配线图案的方法
[7444-0132-0051] 感光性转印片、感光性层合体、图像花样的形成方法以及布线花样的形成方法
[7444-0145-0052] 光刻制程、掩膜版及其制造方法
[7444-0003-0053] x射线光刻对准标记
[7444-0084-0054] 图形形成方法
[7444-0090-0055] 形成具有低电阻率金属图案的方法
[7444-0126-0056] 制造带有立体表面结构化的单元的方法以及该方法的应用
[7444-0040-0057] 曝光装置和器件制造方法
[7444-0020-0058] 显示面板的边框及其构成方法
[7444-0134-0059] 浸润式光刻系统及对具有光阻层的半导体结构的照光方法
[7444-0199-0060] 光刻胶组合物
[7444-0062-0061] 化学放大型正光刻胶组合物
[7444-0144-0062] 放射线敏感性树脂组合物、树脂图案膜及其形成方法以及树脂图案膜的应用
[7444-0017-0063] 光罩处理器及使用此光罩处理器来处理光罩的方法
[7444-0200-0064] 非旋涂方式用正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图形形成方法
[7444-0155-0065] 包含光活性化合物混合物的用于深紫外平版印刷的光刻胶组合物
[7444-0071-0066] 减少多孔介电薄膜清洗期间损伤的处理方法
[7444-0109-0067] 包含缩醛和缩酮作为溶剂的光刻胶组合物
[7444-0111-0068] 特别用于极远紫外(euv)光刻术中的发光系统
[7444-0104-0069] 处理具有倾斜特征的掩模的系统与方法
[7444-0122-0070] 一种双面光刻机底面套刻对准方法
[7444-0063-0071] 光刻过程中晶片热形变的优化校正
[7444-0039-0072] 浸润式光刻之方法与系统
[7444-0065-0073] 图形绘图装置、信息记录媒体的制造方法及母盘制造方法
[7444-0185-0074] 使用无定形碳层改善光栅制造的方法
[7444-0032-0075] 抗蚀剂图案制造工艺及其增厚材料和半导体器件制造工艺
[7444-0030-0076] 水溶性材料、化学放大型抗蚀剂及使用它们的图形形成方法
[7444-0094-0077] 使用前馈覆盖信息的光刻覆盖控制
[7444-0108-0078] 可辐射固化树脂组合物及利用该组合物的快速成型方法
[7444-0119-0079] 有机抗反射涂覆组合物及用其形成光阻图案的方法
[7444-0085-0080] 使用增强的干涉映象光刻技术的特征*优化
[7444-0181-0081] 光刻装置及器件制造方法
[7444-0042-0082] 移动用于浸液光刻的透镜的方法和装置
[7444-0011-0083] 厚外延层上进行投影光刻的方法
[7444-0156-0084] 用于把掩模投影到衬底上的方法和装置
[7444-0078-0085] 一种在普通实验室条件下制作玻璃芯片的方法
[7444-0092-0086] 曝光系统、杂散光检查用的检查掩模及评价光刻工艺的方法
[7444-0168-0087] 一种图案形成方法
[7444-0073-0088] 成像方法
[7444-0097-0089] 自动设计装置和方法及所制中间掩模组和半导体集成电路
[7444-0153-0090] 使用已校准的本征分解模型的光刻过程的制造可靠性检查与验证的方法
[7444-0165-0091] 压模制造方法
[7444-0046-0092] 光刻装置和器件制造方法
[7444-0098-0093] 凹版印刷法与凹板印刷品
[7444-0048-0094] 滤色片的制造方法、固体摄像器件和摄像机
[7444-0204-0095] 光刻装置、洛伦兹致动器、及器件制作方法
[7444-0103-0096] 微影参数反馈系统及控制方法
[7444-0191-0097] 具有照明源的光学装置
[7444-0180-0098] 一种偏振光瞳器件及其在投影光刻系统中的应用
[7444-0082-0099] 抗蚀图形形成方法、使用该法的微细图形形成方法
[7444-0016-0100] 抗蚀剂组合物
[7444-0077-0101] 感光性组合物以及滤色器
[7444-0028-0102] 表面保护膜及使用该膜的表面保护材料
[7444-0047-0103] 图案形成装置和使用其制造连续图案的方法
[7444-0148-0104] 用于测量和校正对准误差的叠层标记
[7444-0049-0105] 抑制污染的光刻设备,器件制造方法,和由此制造的器件
[7444-0093-0106] 感光性树脂组合物及其用途
[7444-0061-0107] 感光性树脂组合物,使用该组合物的感光性元件、保护层图案的制造法及印刷电路...
[7444-0142-0108] 选择的产酸剂及其在辐射敏感元件成像处理中的应用
[7444-0131-0109] 感光性转印片
[7444-0010-0110] 一种柔性光学传感器的制作方法
[7444-0105-0111] 光学元件，包括该光学元件的光刻装置以及设备制造方法
[7444-0198-0112] 平版印刷版前体
[7444-0163-0113] 光固化性?热固性树脂组合物和使用该组合物的印刷线路板
[7444-0149-0114] 光刻装置和器件制造方法
[7444-0197-0115] 水乳型圆网感光胶
[7444-0052-0116] 利用电子束诱导化学刻蚀修复掩模
[7444-0115-0117] 掩模基板的平整度模拟系统
[7444-0205-0118] 光刻设备及器件制作方法
[7444-0147-0119] 成像组合物及方法
[7444-0176-0120] 正型感光性组合物用显影剂
[7444-0066-0121] 高数值孔径光刻成像偏振控制装置
[7444-0050-0122] 曝光处理系统、曝光处理方法和半导体器件的制造方法
[7444-0036-0123] 曝光方法和装置
[7444-0044-0124] 用于制造平板显示器件的方法和设备
[7444-0171-0125] 多层光刻模板
[7444-0051-0126] 感放射线性组合物用低泡沫显影液
[7444-0068-0127] 形成辐射图案的工具以及形成辐射图案的工具的方法
[7444-0112-0128] 光致抗蚀剂剥离方法
[7444-0059-0129] 花纹工艺中的全移相掩模
[7444-0186-0130] 掩模以及使用掩模的制造方法
[7444-0018-0131] 一种修复掩膜上的铬污染点的方法及其所采用的定位版
[7444-0019-0132] 显示面板的框胶注入装置及其注入方法
[7444-0012-0133] 用x射线曝光制造不同深宽比的微机械构件的方法
[7444-0031-0134] 交联聚合物、有机抗反射涂层组合物及形成光刻胶图案的方法
[7444-0130-0135] 光敏半导体纳米晶和包含其的光敏组合物及其用途
[7444-0157-0136] 曝光头及曝光装置和它的应用
[7444-0172-0137] 鎓盐和其作为潜酸的用途
[7444-0096-0138] 清洗半导体基板的ph缓冲组合物
[7444-0143-0139] 感光性树脂组合物和耐热性树脂膜的制造方法
[7444-0140-0140] 光刻掩模制造
[7444-0004-0141] 光刻装置、照射系统以及提供远紫外线辐射投影光束的方法
[7444-0021-0142] 光刻掩模位相冲突的解决方法
[7444-0027-0143] 激光掩模以及使用其的结晶方法
[7444-0001-0144] 含有无机粉体的树脂组合物、转印膜和等离子体显示屏的制造方法
[7444-0099-0145] 对用于丝网印刷高质量光盘的丝网印刷板进行照相制版的自动机器
[7444-0158-0146] 用于微电子基底的清洁组合物
[7444-0128-0147] 光掩模及其制备方法
[7444-0064-0148] 曝光方法
[7444-0196-0149] 一种环保水乳型圆网感光胶
[7444-0005-0150] 光刻装置及器件制造方法
[7444-0087-0151] 模仁制造方法
[7444-0193-0152] 图案细微化用涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法
[7444-0009-0153] 光罩与应用其形成多晶硅层的方法
[7444-0060-0154] 聚合物和包含聚合物的光致抗蚀剂组合物
[7444-0055-0155] 感光性树脂组合物、使用感光性树脂组合物的光敏元件、抗蚀图形的形成方法及印...
[7444-0174-0156] 掩模基板信息生成方法和掩模基板的制造方法
[7444-0013-0157] 光罩、光罩的制成方法以及使用该光罩的图案形成方法
[7444-0116-0158] 光刻胶层中减小图案尺寸的方法
[7444-0118-0159] 光刻胶层中减小图案尺寸的方法
[7444-0022-0160] 形成防反射膜的组合物
[7444-0053-0161] 含有感光速度促进剂的可水显影光成像厚膜组合物
[7444-0110-0162] 使用具有聚氧乙烯片段的粘合剂树脂的施压时可显影的红外敏感的印刷板
[7444-0006-0163] 抗蚀图案的剥离方法
[7444-0089-0164] 光刻装置及器件制造方法
[7444-0002-0165] 干膜光致抗蚀剂
[7444-0113-0166] 蚀刻掩模
[7444-0161-0167] 无掩模光学写入器
[7444-0069-0168] 曝光掩模图形的形成方法,曝光掩模图形,以及半导体器件的制作方法
[7444-0164-0169] 利用光掩模板作无源对准的方法
[7444-0024-0170] 曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法
[7444-0169-0171] 光刻装置及器件制造方法
[7444-0067-0172] 抗蚀剂残渣去除液组合物及半导体电路元件的制造方法
[7444-0184-0173] 平版印刷术用洗涤剂及冲洗液
[7444-0091-0174] 测量方法、用于提供对准标记的方法和器件制造方法
[7444-0029-0175] 平版印刷版前体以及使用其的平版印刷方法
[7444-0072-0176] 正型感光性树脂组合物及图案形成方法
[7444-0106-0177] 光刻设备、器件制造方法、以及由此制造的器件
[7444-0076-0178] 膏料、显示器部件和显示器部件的制造方法
[7444-0133-0179] 感放射线性树脂组合物、显示面板用间隔物以及显示面板
[7444-0166-0180] 用于高数值孔径系统的静态和动态径向横向电偏振器
[7444-0037-0181] 使用光微影罩幕降低印制于基板上影像的不一致性及影像缩短的方法及光微影罩幕
[7444-0080-0182] 执行基于模型的光学邻近校正的方法
[7444-0095-0183] 打印大数据流的方法和装置
[7444-0136-0184] 投影曝光装置、器件制造方法和传感器单元
[7444-0203-0185] 实时监控光刻过程所用组合物的系统和方法
[7444-0160-0186] 图案化光阻层的形成方法及其制造设备
[7444-0121-0187] 图形描绘装置
[7444-0125-0188] 使用全相位和修剪掩膜的临界尺寸控制
[7444-0114-0189] 光栅偏振掩模板及其在投影光刻系统中的应用
[7444-0139-0190] 以光微影结构化半导体基板的光罩的制造方法
[7444-0175-0191] 可聚合组合物和平版印刷版前体
[7444-0026-0192] 激光掩模以及利用其结晶的方法
[7444-0159-0193] 包含氧化剂和有机溶剂的微电子清洁组合物
[7444-0129-0194] 光学掩模及利用该掩模的薄膜晶体管阵列面板的制造方法
[7444-0057-0195] 用于避免和清洁光学元件上污染物的装置,euv石版印刷设备和方法
[7444-0058-0196] 用于浸液式光刻的折射投影物镜
[7444-0043-0197] 光刻装置
[7444-0138-0198] 稀释剂组分及用其除去光刻胶的方法
[7444-0035-0199] 光刻装置和器件制造方法
[7444-0146-0200] 纳米印章技术中纳米级模板的制备方法
[7444-0150-0201] 具有前馈调焦装置的光刻装置及器件制作方法
[7444-0167-0202] 基于opc模型的本征分解
[7444-0008-0203] 抗反射组合物
[7444-0041-0204] 光栅补丁装置、光刻设备、测试方法、器件制造方法
[7444-0152-0205] 一种曝光装置
[7444-0206-0206] 用于相移式掩膜的原位平衡
查询更多技术请点击：
中国创新技术网（http://www.887298.com）
金博专利技术网（http://www.39aa.net）

金博技术资料网（http://www.667298.com）
购买操作说明（点击或复制）（http://www.39aa.net/index.php?gOo=help_send.dwt）本部（辽宁日经咨询有限公司技术部）拥有各种专利技术、技术文献、论文资料近20万套500多万项，所有专利技术资料均为国家发明专利、实用新型专利和科研成果，资料中有专利号、专利全文、技术说明书、技术配方、技术关键、工艺流程、图纸、质量标准、专家姓名等详实资料。所有技术资料均为电子图书（PDF格式，没有录像及视频），承载物是光盘，可以邮寄光盘也可以用互联网将数据发到客户指定的电子邮箱（网传免收邮费）。
(1)、银行汇款：本套资料标价(是网传价，不包含邮费，如邮寄光盘加收15元快递费，快递公司不能到达的地区加收22元的邮政特快专递费)汇入下列任一银行帐号（需带身份证），款到发货！
中国农业银行:9559981010260269913    收款人: 王雷
中国邮政银行:602250302200014417     收款人: 王雷
中国建设银行：0600189980130287777   收款人: 王雷
中国工商银行:9558800706100203233    收款人: 王雷
中国    银行：418330501880227509    户  名：王雷
欢迎通过、有啊、拍拍等第三方平台交易，请与QQ：547978981联系办理。
邮局地址汇款：117002辽宁省本溪市溪湖顺山科报站   收款人: 王雷
汇款后请用手机短信（13050204739或13941407298）通知，告诉所需技术光盘名称、编号、数量及收货人姓名、邮政编码和详细地址。（如需网传请告邮箱地址或QQ号）
单位：辽宁日经咨询有限公司（技术部）
地址：辽宁省本溪市溪湖顺山科报站
联系人：王雷老师
电  话：024-42114320   3130161
手  机：13941407298   13050204739
客服QQ：547978981    824312550   517161662敬告：本公司已通过国际华夏邓白氏资质认证，查看认证信息请点击：http://fuqiangxx.b2b.hc360.com/shop/mmtdocs.html
办理全国范围货到付款业务：请与QQ：547978981联系办理。